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Hellma (111)晶向CaF?單晶圓片具備抗劃傷能力
發(fā)布時(shí)間： 2026-07-28 點(diǎn)擊次數(shù)： 200次Hellma (111)晶向CaF?單晶圓片具備抗劃傷能力
Hellma氟化鈣CaF?單晶圓片（規(guī)格：直徑14.7mm、厚度4.2mm，平-平結(jié)構(gòu)，(111)晶體取向，適配248nm波段，精磨表面Rq 2µm，0.5mm防護(hù)倒角，尺寸公差直徑±0.1mm、厚度±0.1mm，整體規(guī)范遵循HMAT材料標(biāo)準(zhǔn)）是面向深紫外光譜檢測(cè)、激光光路、精密分析儀器開發(fā)的標(biāo)準(zhǔn)化光學(xué)元件。熔融石英在260nm以下透光性能快速衰減，普通多晶氟化鈣存在晶界散射問題，而該款單晶CaF?元件憑借寬光譜透光能力、低應(yīng)力雙折射、極低內(nèi)部光散射特性，成為248nm深紫外光路的核心耗材。本文結(jié)合應(yīng)用案例，還原應(yīng)用工況、原有技術(shù)痛點(diǎn)、實(shí)施方案與長(zhǎng)期運(yùn)行成效，闡明該氟化鈣元件在不同系統(tǒng)中的技術(shù)價(jià)值，同時(shí)明確工況適用邊界，為光學(xué)系統(tǒng)集成、儀器選型、耗材配套提供工程參考。
元件基礎(chǔ)技術(shù)邊界與核心特性概述
基材為monokristallin單晶氟化鈣，區(qū)別于多晶螢石，內(nèi)部無(wú)晶界，光束透射散射極低；晶體取向(111)，固有應(yīng)力雙折射水平低，規(guī)避偏振干擾；目標(biāo)工作波長(zhǎng)248nm深紫外區(qū)域，彌補(bǔ)石英光學(xué)材料短波透過短板；雙面平-平結(jié)構(gòu)，光束垂直入射無(wú)偏折；精磨表面Rq 2µm，具備良好抗劃傷能力，適合與樣品介質(zhì)直接接觸；0.5mm邊緣防護(hù)倒角，降低脆性晶體裝配崩邊風(fēng)險(xiǎn)；全套制造、檢驗(yàn)規(guī)范執(zhí)行Hellma HMAT標(biāo)準(zhǔn)，保障多批次元件光學(xué)性能、幾何尺寸高度一致。元件材質(zhì)化學(xué)穩(wěn)定性可耐受絕大多數(shù)中性溶劑、弱酸介質(zhì)，不適用于濃強(qiáng)堿、長(zhǎng)期接觸場(chǎng)景漢達(dá)森yyds吳亞男。
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